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頻率測量儀是測量信號頻率的裝置。以數(shù)字形式輸出頻率的電子設(shè)備或組件，也稱為頻率計數(shù)器。測量電信號的周期脈沖數(shù)并輸出頻率。頻率測量儀器用于與高頻無線電技術(shù)相關(guān)的許多應(yīng)用中，以高精度測量頻率信號?？梢赃M(jìn)行準(zhǔn)確、高精度的測量，并可以詳細(xì)分析信號波形和頻率特性。這種頻率測量儀廣泛應(yīng)用于電氣測試的各個領(lǐng)域，測量重復(fù)信號的頻率。頻率測量儀原理頻率測量儀器通常與示波器等其他儀器結(jié)合使用。頻率測量儀器的類型包括臺式、便攜式、高頻、低頻、RF（射頻）和微波。頻率測量儀由波形整形部分、參考時間脈...

光梳是一種用于多種應(yīng)用的技術(shù)。1.原子鐘光梳對于高精度原子鐘至關(guān)重要。通過使用光梳，可以非常高精度地測量原子和分子的躍遷頻率。這提高了世界各地用作時間標(biāo)準(zhǔn)的原子鐘的準(zhǔn)確性。使用光梳的原子鐘對于GPS等衛(wèi)星定位系統(tǒng)的精確時間同步也很重要。2.光譜分析使用光梳的光譜分析對于分子躍遷和原子光譜的高分辨率觀察非常有用。這對于天體物理研究和核物理非常重要。用于探測大氣中的氣體和觀測天體光譜。3、通訊設(shè)備光梳用于生成用于高速數(shù)據(jù)通信的鎖相光脈沖。這使得穩(wěn)定的信息傳輸和高帶寬通信成為可能。...

全球電子設(shè)備市場持續(xù)擴(kuò)大，支撐其的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)變得越來越重要。盡管2019年全球半導(dǎo)體市場經(jīng)歷了負(fù)增長，但盡管過去經(jīng)歷過雷曼沖擊，但仍持續(xù)擴(kuò)張。近年來，存儲器的技術(shù)發(fā)展從微型化轉(zhuǎn)向3D技術(shù)，刻蝕技術(shù)的重要性日益增加。截至2018年，半導(dǎo)體光刻設(shè)備的市場規(guī)模為10852億日元。按消費(fèi)地區(qū)劃分，韓國以36%排名di一，其次是中國臺灣地區(qū)（19%），第三位是中國大陸（18%），第四位是美國（14%），第五位是日本（7%）。半導(dǎo)體光刻設(shè)備廠商按國籍劃分的市場fene（2018年）為歐洲...

半導(dǎo)體曝光設(shè)備由光源、聚光透鏡、光掩模、投影透鏡和載物臺組成。從光源發(fā)出的紫外光通過聚光透鏡調(diào)整，使其指向同一方向。之后，紫外光穿過作為構(gòu)成電路圖案的一層的原型的光掩模，并通過投影透鏡減少光線，將半導(dǎo)體元件的電路圖案（的一層）轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體元件上。馬蘇。在諸如步進(jìn)機(jī)之類的曝光設(shè)備中，在完成一次轉(zhuǎn)移之后，通過平臺移動硅晶片，并將相同的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅晶片上的另一位置。通過更換光掩模，可以轉(zhuǎn)印半導(dǎo)體器件的另一層電路圖案。所使用的光源包括波長為248nm的KrF準(zhǔn)分子激光器、波長為1...

半導(dǎo)體曝光設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中用于在硅片上繪制電路圖案的設(shè)備。強(qiáng)大的紫外光透過光掩模，作為電路圖案的原型，電路圖案被轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來，一些設(shè)備使用波長為13nm的激光（稱為EUV）來微型化精細(xì)電路圖案。由于定位等要求高的精度，因此設(shè)備價格昂貴。半導(dǎo)體曝光設(shè)備的應(yīng)用半導(dǎo)體曝光設(shè)備用于包含MOS（金屬氧化物半導(dǎo)體）和FET（場效應(yīng)晶體管）等半導(dǎo)體元件的IC（集成電路）制造過程中的曝光工序。在IC制造過程中，在硅晶片上依次重復(fù)光刻和蝕刻循環(huán)，并且在將氧化硅、金屬...

我們將解釋曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏光鏡、光掩模、聚光鏡、工作臺、傳送硅片的機(jī)械手等組成。鏡頭和光掩模的設(shè)計精度高，平臺的運(yùn)行精度也很高。操作過程中，曝光目標(biāo)精確固定在載物臺上。在操作中，每次曝光時載物臺都會移動，在曝光的物體上創(chuàng)建大量圖案。從光源發(fā)出短波長的強(qiáng)光，偏光透鏡調(diào)整光的方向，然后照射到光掩模上，光掩模是配置電路圖案的原型。穿過光掩模的光被聚光透鏡聚焦，并在曝光的目標(biāo)上描繪出非常小的電路圖案。一旦整個曝光目標(biāo)被曝光，它就會被機(jī)器人或其他設(shè)備運(yùn)輸。根據(jù)產(chǎn)品...

曝光裝置是在半導(dǎo)體、液晶顯示器等制造現(xiàn)場使用的裝置，通過照射光在基板上描繪電路、像素等圖案。由于它們使用強(qiáng)的光線并需要精確控制平臺等，許多產(chǎn)品體積龐大且成本數(shù)十億美元。曝光工藝是半導(dǎo)體和液晶顯示器制造中非常重要的設(shè)備，因?yàn)樗鼪Q定了設(shè)計數(shù)據(jù)（CAD數(shù)據(jù)）的圖案。每家公司都開發(fā)了多種曝光方法并在自己的設(shè)備中使用它們。曝光設(shè)備的應(yīng)用圖1.TFT液晶顯示器的TFT基板側(cè)的制造流程概述曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場和液晶顯示器等平板顯示器（FPD）制造現(xiàn)場。在半導(dǎo)體制造工藝中，以硅晶片...

光頻梳是一種利用激光的特性以高的精度測量光的頻率和距離的技術(shù)。也稱為光學(xué)頻率梳。這項(xiàng)技術(shù)由2005年諾貝爾物理學(xué)獎獲得者TheodorHansture和JohnL.Hall開發(fā)，在許多應(yīng)用中發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括高精度光學(xué)時鐘和光學(xué)頻率測量。光梳對光鐘的發(fā)展做出了巨大貢獻(xiàn)，使極其精確的時間測量成為可能。這對于GPS和科學(xué)研究等定位系統(tǒng)極為重要。與高精度激光系統(tǒng)結(jié)合使用，也有助于促進(jìn)核物理研究。然而，光梳需要先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)，安裝和操作復(fù)雜，并且需要專業(yè)知識。因此，它們可能不容易在...